BAO Mask Avenger 2 2.7.5 三维路径遮罩顶点切线控制AE插件

BAO Mask Avenger 2 是一款适用于 After Effects 的 Mac 插件破解版，专注于三维路径遮罩顶点的切线控制。该插件提供了丰富的功能，使用户能够精确管理和编辑遮罩顶点及其切线，提升了工作效率和创作灵活性。新版本在性能和兼容性上进行了多项改进，确保用户在进行复杂的动画制作时能够获得更流畅的体验。

• 保存预览内存: 新系统可以避免预览内存失效的问题，提升工作流效率。
• 3D遮罩管理: 直接在 3D 空间中管理遮罩，无需使用零层和表达式。
• 背景烘焙: 在修改遮罩时，可以即时转换并在后台继续烘焙其他部分，避免等待。
• 层兼容性提升: 新的烘焙系统消除了与“动态”模式相关的错误，提高了兼容性。
• 计算速度: 工作区域和层的持续时间不再影响 Mask Avenger 的计算速度，允许用户在烘焙过程中继续工作。
• 自带遮罩功能: Mask Avenger 现在使用自有的遮罩功能，效率更高，无需再依赖 Mask Renderer。
• 遮罩预览: 动态预览功能可让用户在变更遮罩前查看效果，降低延迟感。
• 单独控制每个顶点: 用户可以选择单独操作顶点或全面控制切线，灵活性更强。
• 集成脚本: 内置脚本帮助用户进行表达式设置和与零层的关联。
• 顶点与追踪点连接: 通过简单的表达式轻松将顶点与追踪点关联。
• 冻结模式: 可以与没有 Mask Avenger 的用户共享项目。
• 智能插值模式: 基于重心或独立关键支点的体积保存。
• 与“自由变换”工具集成: 提供更直观的遮罩操作体验。
• 遮罩读取器: 读取路径上任意点的位置和方向数据。
• 形状应用: 可以将 Mask Avenger 的遮罩应用于图层形状。
• 本地插件: Mask Avenger 是 After Effects 的原生插件，兼容性和稳定性更高。